新利体育曝光掩膜厂商将采用LSI厂商所拥有的有关成品率的芯片设计信息来降低掩膜生产成本、缩短交货期。掩膜业界著名公司大日本印刷已着手建立这种体制。该公司将从LSI厂商获取关于掩膜缺陷率的重要信息，用来降低掩膜生产中的检查成本、补救合格产品等。该公司将于2008年度启动新系统新利体育，“目标定位于65nm以后尖端工艺”（大日本印刷）。
大日本印刷将与布线优化工具厂商——美国TakumiTechnology共同着手新系统的构建。大日本印刷表示“已经得到了1家著名LSI厂商的协助”（大日本印刷）。
大日本印刷与TakumiTechnology将在08年3月之前完成系统构建，届时，如果与之合作的LSI厂商有关采用的话，该系统将正式投入使用。以后，还将免费向其他LSI厂商提供该系统新利体育。
大日本印刷要构建的系统的功能是，LSI厂商利用此软件可预先对要进行曝光的掩膜的每个部位进行缺陷“排名”。这样，与其他部位的缺陷相比新利体育，影响芯片成品率的危险部位的缺陷将被加权（Weighted）。同时，掩膜厂商向LSI厂商提供实际制成的掩膜的缺陷数据。LSI厂商将通过TakumiTechnology的掩膜自动检查软件，对加权表示的缺陷数据和掩膜实际数据进行对照。
这样，就可以具体找出影响成品率的掩膜缺陷部位，并判断出是否需要修正，然后将结果提供给掩膜厂商。掩膜厂商就可以利用这些信息高效地进行掩膜修正。同时，还可以对此前根据掩膜厂商的自主检查标准判断为不合格产品的合格产品进行修改，因为这些缺陷不影响产品率。这样，就可以降低掩膜生产成本，缩短交货期。
由于65nm以后的工艺对掩膜图形精度的要求越来越高，缺陷检查所需的成本和时间增加，导致掩膜价格高涨新利体育、交货期延长。此次，大日本印刷等将构建的系统，可以说就是要通过以“缺陷排名”的方式采用LSI厂商所掌握的有关成品率的设计信息新利体育，来解决上述课题。